2013年4月28日至5月11日，我研究所所长刁东风教授访问了美国-西部-东部-中地区5所著名的大学并做了5次学术报告。UCSD加州大学圣地亚哥分校的Prof. Frank E. Talke(目前在摩擦诱导退磁方向联合培养杨雷博士生），UCB加州大学伯克利分校的Prof. K. Komvopoulos（面向开发极限纳米碳膜厚度需要解决的关键科学与技术问题的合作研究），OSU俄亥俄州立大学的Prof. Bharat Bhushan（在学科建设及联合培养博士生达成定期来华访问交流计划），SCU南卡罗来纳大学的Prof. Xiaodong Li（面向Nano letter, Advance Materials等影响因子超过10以上的杂志上发表多篇论文的多项研究计划），NU西北大学的Prof. Huang Jiaxing（Graphene-Based 材料应用达成共同研究计划）。并参加了在San Diego举办的2013年国际冶金涂层与薄膜大会（41th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, 2013），会上做了题为“ECR等离子体中电子照射条件对石墨烯嵌层结构形成的影响和机理研究”，“纳米划痕诱导的石墨烯层间悬浮键开闭条件及交联结构形成原理的分子动力学解析”与“离子照射下交联结构与超光滑表面的形成原理”3篇论文报告，为纳米表面科学与工程国际间协同创新平台建设及引领该领域发展起到了关键作用。

                              （a）Prof. Frank E. Talke               （b）Prof. K. Komvopoulos

                     （c）Prof. Bharat Bhushan               （d）Prof. Xiaodong Li及其研究室成员